دانلود کتاب Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Name: Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Availability: InStock
Author: Seiji Samukawa (auth.)
ISBN: 9784431547945, 9784431547952

by Seiji Samukawa (auth.)

عنوان فارسی: از ویژگی های مشخصات تکامل در پردازش پلاسما با استفاده از سیستم مانیتورینگ بر روی ویفر
ناشر: Springer Japan
سال: 2014
ویرایش: 1
زبان: انگلیسی
تعداد صفحه (نسخه چاپی - نسخه الکترونیکی): 40-46
شابک: 9784431547945, 9784431547952
نوع فایل: PDF دانلود نرم افزار مطالعه
حجم: 3.00 مگابایت

گزارش تخلف

دانلود کتاب

افزودن خلاصه فارسی

جزییات کتاب

This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described.

کتاب های مرتبط

این کتاب رو مطالعه کردید؟ نظر شما چیست؟

برای ارسال نظر، لطفا وارد شوید.

نظر دهید

* فیلدهای ستاره دار الزامی است.

1000

ورودی های من را در نظرهای بعدی به خاطر بسپار.

نظرات (0)

هنوز نظری داده نشده است. شما اولین باشید!